TRIN高柳TAS-0451IAS-SD离子风淋室发布

更新时间：2026-09-18

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#2026年新品发布会#

日期：2026年9月18日

时间：8：30-18：30

近期我司新推出升级了

TRIN高柳 TAS-0451 IAS-SD 离子风淋室

TRIN高柳正式推出TAS-0451IAS-SD离子风淋室，以无门式结构与离子风技术重新定义洁净室入口除尘标准。该设备通过强力气压与TRINC的离子生成方法结合，能在人员及物料通过时完成除尘与除静电，单次操作仅需4秒，大幅缩短等待时间。与传统风淋室不同，TAS-0451IAS-SD采用无金属门设计，进出流畅，避免人员被封闭其中的安全隐患。其离子与空气的协同效应可有效中和衣物及搬运物料表面的静电，使吸附的微尘更容易被气流剥离，连膝盖以下区域也可实现全面清洁。设备搭载一键式清洁功能，维护简便，且设计紧凑，可在工厂入口或更衣室灵活部署。对于电子、半导体、印刷涂装及医疗食品行业而言，该产品为洁净室入口的异物管控提供了高效的解决方案。

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