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TRIN高柳TAS-841 SFS-SD-0155在半导体车间应用

更新时间:2026-10-09      浏览次数:8

TRIN高柳 TAS-841 SFS-SD-0155 空间链接

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半导体制造车间对静电和粉尘的控制要求极为严苛。晶圆在取放、传输和加工过程中,静电吸附的微小颗粒可能导致电路短路、图形缺陷甚至整片晶圆报废。TRIN高柳TAS-841 SFS-SD-0155空间链接为半导体车间提供了一种不依赖洁净室基建的静电管控方案。

该产品的无风除电特性在半导体应用中尤为关键。晶圆表面极其精密,传统离子风机的气流可能将颗粒吹到晶圆上,造成划伤或污染。TAS-841 SFS-SD-0155不产生气流,仅依靠离子在空间中弥散,中和晶圆表面及周围漂浮粉尘的静电,使粉尘失去吸附力。155mm的有效长度使其特别适合安装在晶圆检测台、光刻工位、薄膜沉积设备侧面等空间受限的位置。

内置的离子量检测传感器实时维持正负离子平衡,保护对静电敏感的晶圆和掩模版。设备无需加湿的特性使其适用于洁净室中湿度受限的区域,避免了加湿可能带来的晶圆表面水汽凝结问题。操作人员无需佩戴防静电腕带即可在工位内自由走动,静电随人体移动被附近的离子即时中和。

TAS-841 SFS-SD-0155支持多台串联扩展,对于需要覆盖更大区域的晶圆传输工位,可通过串联方式连接多根离子棒。放电针快拆设计使维护只需数秒即可完成,不中断产线运行。该产品适用于晶圆取放工位、光刻与薄膜沉积工位间传输区域、EFEM内部除电等多种半导体制造场景,为半导体车间提供了一种从根源上抑制颗粒污染的静电管控方案。

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