OTSUKA大塚电子 膜厚仪 进口
大塚电子膜厚仪形成手持抽检→实验室微区精密检测→产线单点监测→卷膜全幅线扫完整方案，为薄膜镀膜、涂布、半导体制程提供全流程无损膜厚质控解决方案。

日本大塚电子（OTSUKA）是分光干涉式光学膜厚检测领域厂商，全系膜厚仪依托自主分光干涉法（反射光谱分析法），实现非接触、非破坏性薄膜厚度检测。产品覆盖实验室台式、显微单点、手持式、产线在线点测、线扫描全域检测全系列机型，适配纳米级超薄膜至百微米厚膜，可解析单层、多层薄膜厚度以及折射率 n、消光系数 k 等光学常数，广泛服务半导体、显示光学膜、精密涂层、新能源材料行业，兼顾研发实验室抽检与量产生产线实时监控需求。

OTSUKA大塚电子 膜厚仪 进口

设备光源向样品表面入射光线，基材界面与薄膜表层产生两道反射光形成干涉光谱；内置高速光谱采集单元采集反射光谱曲线，搭载大塚自研 FFT 傅里叶变换、非线性最小二乘法等多重解析算法，拟合计算得到薄膜厚度。

区别于 X 射线测厚，光学方式无辐射风险；搭配光学结构，可消除透明基板底面反射干扰，解决普通光学膜厚仪测量透明基材精度不足的痛点。

OTSUKA大塚电子 膜厚仪 进口

• 无损非接触测量：无需接触样品，不划伤涂层、薄膜，样品可完整保留继续后续工序。

• 宽量程覆盖：从数十纳米超薄膜到数百微米厚膜通用，一台设备适配多工艺样品。

• 多层膜解析能力：区分基底上方多层涂层，同步解析光学常数，满足新材料研发需求。

• 软件易操作：内置新手向导模式，内置多种材料数据库，降低操作人员门槛；支持自定义测量宏程序、自动多点扫描、数据趋势记录。

• 高度定制化：分体式光纤探头可嵌入真空镀膜机、涂布机、研磨设备；支持多点并行测量、远程通讯对接产线 MES 系统。

• 长期稳定性强：长效 LED 光源，维护周期长，产线 24 小时连续运行稳定性优异。